紫外曝光機，也稱光（guāng）刻機、掩模對（duì）準曝光機、曝（pù）光係統、光刻係統等（děng），是印（yìn）刷線路板（PCB）製作工藝中的重要設備。

一般（bān）的光（guāng）刻工藝要經曆矽片表麵清洗烘幹、塗底、旋塗（tú）光（guāng）刻（kè）膠、軟烘、對準曝光、後烘、顯影（yǐng）、硬烘、刻（kè）蝕等工序。

其主要性能（néng）指標有（yǒu）：支持基片的尺寸範圍，分辨率（lǜ）、對準精度、曝光方式、光源波（bō）長、光強均勻性、生產效率（lǜ）等。

 

紫外曝光機鏡片 係統組成及其工作原（yuán）理：

傳統曝光機光學係統主（zhǔ）要由光源（yuán）（高（gāo）壓球形汞燈）、橢球麵反光杯（bēi）、冷光鏡、透射式複眼光學透鏡陣列、二向色鏡和球麵平行光反射鏡組成。

其中，光刻機內部的（de）反射鏡會積聚來自 EUV 光源的錫（xī）碎（suì）屑。光源發出（chū）的光被橢（tuǒ）球（qiú）麵反光杯聚焦後，經冷光鏡反射到（dào）複眼透鏡陣（zhèn）列場鏡，從投影鏡出射的光到達二向色鏡，

光譜中的紫外部分被50%透（tòu）射，50%反射後，到（dào）達兩（liǎng）塊對稱分布的大麵積球麵平行反光鏡（jìng），被準直反射到曬板上對PCB板進行（háng）曝（pù）光。

 

“EUV光刻機的光（guāng）源是極紫外光，所以其實際上叫做極（jí）紫外線光刻機。而（ér）蔡定（dìng）平（píng）教授團隊研發的新型真空紫外非線（xiàn）性（xìng）超構透鏡，能夠產生（shēng）和聚焦極紫外光，並能夠將波長（zhǎng）395nm轉化為197nm 。聚焦光點的（de）功率密度（dù）比超構透鏡高了21倍。”

據悉，這一突破能夠（gòu）應用於EUV光刻機之中，幫（bāng）助國產光刻機突破技術（shù）瓶頸。並且，這一技術還（hái）屬於EUV光刻機的核心技術，對實現EUV光刻機自主有重大意義。

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