中國科學（xué）院光（guāng）電技術研究所真（zhēn）空/深紫外鍍膜課題組在真空紫（zǐ）外反射濾（lǜ）光片製備方（fāng）麵取得進展，通過光譜反（fǎn）演技術獲取光學薄膜材料在真空紫外（wài）波段的光學常（cháng）數，進而優化真空紫外反射濾（lǜ）光膜膜係設計，並運用熱（rè）蒸發真空鍍膜工藝製備出高性能的真空紫外反射濾光片。

極光（guāng）在真空紫外波（bō）段的輝光發射可提供諸（zhū）如極光總能量、極光特征粒子種類和特征粒子能量等重要信（xìn）息，使得極光光譜成像成為（wéi）天體物理（lǐ）研究的重要課題。目前，科研人員對（duì）真空紫（zǐ）外波段（duàn）的（de）極光光譜成像（UVI）研究主要包括氧原子發射線（130.4和135.6nm）和氮分子發射帶（140-160和160-180nm）。為了獲取極光總能量和上述各種（zhǒng）特征離子能量迫切（qiē）需要高性能的真空紫外光學濾（lǜ）光片。由於所有的（de）光學薄膜材（cái）料（liào）在真空紫外波（bō）段均具（jù）有極大的吸收損耗，常用的透射（shè）式光學濾光片（piàn）不可取，使得反射式光學濾光片成為（wéi）UVI係（xì）統的首選。

以氧原子發（fā）射線光譜成像為例，需（xū）要製備出一種（zhǒng）R135.6nm/R130.4nm足夠高的反射濾光片。國外Zukic等研究人員首先提出采用p結構多層膜設（shè）計，優化真空紫外（wài）反射濾光片的光譜性能。但是，p結構多層膜（mó）設計中存在大量厚度極薄（báo）的膜層，增加了真空鍍膜的製備難度。此外，光學薄膜材料在真空（kōng）紫外波（bō）段的光學常數（shù）正確獲取與否，也將顯著地（dì）影響反射（shè）濾光片的最終光譜性能。該（gāi）課題組研究人員（yuán）通過光譜反演技術準確獲取薄（báo）膜光學常數，並限製反射濾光（guāng）膜膜係中薄層厚度，優化反射濾光膜膜係設計，通過熱蒸發（fā）真（zhēn）空鍍膜工藝製（zhì）備（bèi）出理論設計和（hé）實測光譜數據一（yī）致性良好的真空紫外反射濾光片。實測0°和45°入射角下的反射濾光膜（mó），其R135.6nm/R130.4nm比值分別為92.7和20.6，遠優於國（guó）外製（zhì）備的真空紫外反射濾光片（piàn）。相關成果發表在Appl. Opt. (Appl. Opt. 54(35), 10498-10503, 2015)上。

光電所在真空紫外反射濾光片製備方麵取得進展