紅外矽透鏡,鍺透鏡,紅外透鏡（jìng）,紅外（wài）矽透鏡（jìng）應用,鞍山（shān）市高潮视频在线快速多人光電有限公司

隨（suí）著紅外空空（kōng）導彈的發展，紅外光（guāng）學材料單晶（jīng）矽得到了廣泛的應用。

介紹（shào）了單晶矽（guī）材料加工（gōng）透鏡（jìng）的工藝過程，著重研究了矽透鏡的拋光技術，通過受用不同的拋光（guāng）粉以及拋光模層材料，找到（dào）了加工矽（guī）透鏡的最佳工藝匹配條件（jiàn）。

實驗結果表明：使用sio2膠（jiāo）體配製的拋（pāo）光液（PH10-11）及用拋光布之稱的拋光模，采用機械（xiè）化（huà）學方法拋光出的零件表麵疵病達到III級（GB1185-74），

並能夠通過修改拋光模控製光圈以及光圈的誤差，加工（gōng）出的矽透鏡滿足導彈光學係統的要求。

隨著先進紅外空空導彈（dàn）的發展，各（gè）種晶（jīng）體材（cái）料得到了廣泛（fàn）的應用（yòng），

目前應用最多的紅外光學材料當數矽（Si）和鍺（Ge），它們具有金屬光澤、質硬（yìng）易（yì）脆（cuì），折（shé）射率高、色散小，在可見光波段不透光，但在紅外波段（3~5微米（mǐ））具（jù）有良好的透過率，廣泛用於紅（hóng）外導彈光學係統。

矽單晶（jīng）的物理性能

純淨的單晶矽呈淺灰色，是一種略具有金屬（shǔ）性質的材料。其熔點為1417℃，相當硬且（qiě）脆。它在許多方麵表現（xiàn）為金屬，但在有些方麵則介於金屬（導體）與非（fēi）金屬（shǔ）(絕緣體)之間。

矽透鏡加工的難點

⑴精磨工序

精磨（mó）是拋光前的一項重要（yào）工序，其目的是使零件達到拋（pāo）光所需的尺（chǐ）寸（cùn）精度和表麵質（zhì）量。直接影響精磨工序質量（liàng）的（de）因（yīn）素有加工設備、模具以及精磨磨料。

①光圈的控製

模具與零件膠盤的相對尺寸要恰當（dāng），模具的矢高偏差（chà）要在一（yī）兩微（wēi）米之內（nèi）。機（jī）床速（sù）度與壓力要匹配，保（bǎo）證精（jīng）磨出的零件光圈是低7~8道。304#砂麵均勻一致，特別是靠近邊緣處容（róng）易（yì）塌邊。

②精磨（mó）表（biǎo）麵的（de）質量控製

精磨過程容易產生麻點和劃痕。麻點產生的主要原因是（shì）精磨時間不夠（gòu）或（huò）磨削量不足；劃痕（hén）產生的（de）主要原（yuán）因（yīn）是模具表麵鈍化、硬度或粒度（dù）不合適（shì）、冷卻液不幹淨等。

⑵拋光工序

拋光的目的一是消除精（jīng）磨後凹凸不（bú）平的毛麵以（yǐ）及殘餘破壞層，保證達到規定的表（biǎo）麵疵病（bìng）等級；二是精修麵形，以實現所要求的光圈和光圈誤（wù）差。拋光過程是將拋光劑和拋光模與（yǔ）零件表麵之間，借助二者的（de）相（xiàng）對運（yùn）動（dòng），使零件逐漸拋光成具有一定麵形精度和表麵（miàn）質量的光學表麵。

晶（jīng）體拋光時，要求工（gōng）房溫（wēn）度在24℃以上，相對濕度小於60%，工房內嚴（yán）格防塵，以免劃傷零件表麵。

① 拋光模及（jí）拋光液

光學加工中各工序必（bì）須嚴格分開，以避免磨料相互汙染（rǎn），尤其在（zài）初拋光和精（jīng）拋光之間（jiān）更應注意避免空氣（qì）中傳播的懸浮微粒汙（wū）染。在初拋光後將膠盤好人零件上（shàng）散落的磨料清除幹（gàn）淨，避免拋光過程中零件表麵（miàn）受損，可在流水下（xià）清刷膠盤去除（chú）散落的磨料。

② 拋光劑和拋光模的作（zuò）用

在拋光過程中，拋光劑對零件表麵起著磨削（xuē）作用，借助拋光劑與零件表麵的摩擦，將零件表麵的（de）砂眼磨掉，逐漸形成光滑平（píng）整的光學表麵。選用的拋光（guāng）粉顆粒（lì）要均勻，拋光效率要（yào）高；拋光模質量的優劣，對零件表麵質（zhì）量有直接影響。因此要求拋光模硬度合適，表（biǎo）麵平整，拋光（guāng）過程不損傷零件表麵；從微觀上講（jiǎng），矽透鏡的拋光實際上是一種更精細的研磨。在拋光過程中（zhōng）有兩（liǎng）種作用存在於零件表麵，這就是機械和化學作用，當這兩種作用保持平衡時，拋光出的零（líng）件表麵質量最好。